Khử mùi và khử màu cho dung dịch cắt mài wafer silicon
Tổng quan dự án:
Dựa trên công nghệ bọt khí siêu vi và nano của Zhuhong để xử lý nước thải sinh hóa từ dung dịch cắt mài wafer, hiệu quả phân hủy các chất ô nhiễm là rất đáng kể. Công nghệ này, với ưu thế cốt lõi là diện tích bề mặt riêng lớn và hiệu suất truyền khối cao của bọt khí siêu vi và nano, đã tăng cường mạnh mẽ khả năng oxy hóa – phân hủy của ozone, cho phép phân hủy hiệu quả các chất ô nhiễm hữu cơ trong nước; tỷ lệ loại bỏ COD của nước đầu vào có thể đạt tới 57,32%, với hiệu quả giảm thiểu các chất ô nhiễm hữu cơ vô cùng nổi bật.
Đồng thời, hệ thống bọt khí siêu vi và nano còn sở hữu khả năng khử màu và khử mùi ưu việt, có thể loại bỏ triệt để độ màu và các mùi hôi khó chịu trong nước thải, giúp nước sau xử lý trong suốt, sạch sẽ. Toàn bộ quy trình có hiệu suất làm sạch cao, kết quả xử lý ổn định, phù hợp với nhu cầu xử lý sâu đối với nước thải phát sinh từ quá trình cắt gọt wafer silicon trong ngành quang điện, góp phần đảm bảo nước thải của ngành đạt tiêu chuẩn xả thải và thúc đẩy tái sử dụng nguồn nước.
(So sánh độ màu của nước thải sau các thời điểm xử lý khác nhau)
( Xu hướng thay đổi hàm lượng COD trong nước theo thời gian xử lý)
Tin tức liên quan